Spezielle Mikroskopiersysteme Professionelle Mikroskopie-Bildgebungssysteme
Produktübersicht
Für spezielle Anwendungsanforderungen entwickelte professionelle Mikroskopiersysteme, einschließlich Kurzwelliges Infrarot (SWIR), Differenzial-Interferenzkontrast, Hellfeld-Metallographie, Fluoreszenz, Polarisation und weitere Mikroskopietechniken.
Hauptmerkmale
- Professionelles Design, optimiert für spezifische Anwendungen
- Hochwertige optische Komponenten
- Modulare Konfiguration, einfach erweiterbar
- Geeignet für Forschung und industrielle Prüfung
- Komplette Systemlösungen
Finden Sie basierend auf Ihren Anwendungsanforderungen schnell das passende Mikroskopiersystem
Spezielle Mikroskopiersysteme
Für spezielle Anwendungsanforderungen entwickelte professionelle Mikroskopiersysteme, einschließlich Kurzwelliges Infrarot (SWIR), Differenzial-Interferenzkontrast, Hellfeld-Metallographie, Fluoreszenz, Polarisation und weitere Mikroskopietechniken.
BSM - Kurzwelliges Infrarot-Mikroskopiersystem
Das modulare Kurzwellige Infrarot (SWIR) Mikroskopiersystem der BSM-Serie ist eine Technologieplattform der neuesten Generation für SWIR-Mikroskopie, ...
Hauptmerkmale
- Vollständige Abdeckung des SWIR-Bildgebungsbands von 900–1700 nm
- Durchdringungsbildgebungstechnologie für siliziumbasierte Materialien, ermöglicht zerstörungsfreie interne Prüfung
- Drei wählbare Tubuslinsensysteme (BSM-T180VA/T090VA/T100VA)
- Maximale Bildebene von 33 mm, kompatibel mit großen Sensoren
- Professionelle M Plan Apo NIR-Objektivserie (5X–50X HR)
- 0,4 µm ultrahochauflösende optische Auflösung (50X HR-Objektiv)
- Koaxiales Auflicht-Köhler-Beleuchtungssystem
- Integrierte LED-Lichtquellen mit mehreren Wellenlängen: 1200/1300/1400/1550 nm
- Kompatibel mit hochleistungsfähigen InGaAs-Sensorkameras (0,33M–5,0M)
- Echtzeit-Bildgebungsfähigkeit, Bildraten bis zu 400 fps bei 640×512
- TEC-Kühltechnologie für rauscharme Bildgebung mit hohem Signal-Rausch-Verhältnis
- Standard-C-Mount-Design, kompatibel mit verschiedenen Kamerasystemen
- Modulare Architektur, unterstützt flexible Anpassung und Upgrades
- Präzise CNC-Bearbeitung und Vibrationsdämpfungsdesign
- Standard-Glasoptiksystem, kostenoptimiert
Anwendungsbereiche
DIC100 - Differenzial-Interferenzkontrast-Mikroskopiersystem
Das DIC-Mikroskopiersystem (Differential Interference Contrast) nutzt das Prinzip der Doppelstrahl-Polarisationsinterferenz, dessen Prozess wie folgt ...
Standard-Arbeitsabstand-Objektivparameter (45 mm parfokale Länge)
Objektivname | Vergrößerung | Numerische Apertur | Arbeitsabstand | Brennweite | Auflösung | Objektsichtfeld | Bildsichtfeld | Gewindegröße |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
DIC2.5XA | 2,5X | 0.075 | 6,2 mm | 80 mm | 4,46 µm | 10 mm | 25 mm | M26×0,705 |
DIC5XA | 5X | 0.15 | 23,5 mm | 39 mm | 2,2 µm | 5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
DIC10XA | 10X | 0.3 | 22,8 mm | 20 mm | 1,1 µm | 2,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
DIC20XA | 20X | 0.4 | 19,2 mm | 10 mm | 0,8 µm | 1,1 mm | 25 mm | M26×0,705 |
DIC50XA | 50X | 0.55 | 11 mm | 4 mm | 0,6 µm | 0,44 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Objektive mit langem Arbeitsabstand-Parameter (60 mm parfokale Länge)
Objektivname | Vergrößerung | Numerische Apertur | Arbeitsabstand | Brennweite | Auflösung | Objektsichtfeld | Bildsichtfeld | Gewindegröße |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
DICL2XA | 2X | 0.055 | 33,7 mm | 100 mm | 6,1 µm | 12,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
DICL5XA | 5X | 0.14 | 33,6 mm | 40 mm | 2,2 µm | 5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
DICL10XA | 10X | 0.28 | 33,4 mm | 20 mm | 1,2 µm | 2,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
DICL20XA | 20X | 0.34 | 29,5 mm | 10 mm | 0,8 µm | 1,25 mm | 25 mm | M26×0,705 |
DICL50XA | 50X | 0.5 | 18,9 mm | 4 mm | 0,7 µm | 0,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Hauptmerkmale
- Standard-Arbeitsabstand-Serie/Langer Arbeitsabstand-Serie Objektive (optional)
- Bildgebungsstrahlengang: 1X (Tubuslinsenlänge 180 mm), verschiedene Verkleinerungsoptiken anpassbar
- Bildebene des Bildgebungsstrahlengangs: 25 mm
- Spektralbereich des Bildgebungsstrahlengangs: sichtbares Licht
- Kameraanschluss: C/M42/M52 etc. optional
- Beleuchtungsart: Kritische Beleuchtung/Köhler-Beleuchtung optional
- Beleuchtungsquelle: 10 W Weißlicht/Blaulicht-LED-Beleuchtung optional
Anwendungsbereiche
BMM100 - Hellfeld-Metallographie-Mikroskopiersystem
Das Hellfeld-Metallographie-Mikroskop (Brightfield Metallographic Microscope) besteht hauptsächlich aus drei Hauptsystemen: Beleuchtungssystem, Bildge...
Standard-Arbeitsabstand-Objektivparameter (45 mm parfokale Länge)
Objektivname | Vergrößerung | Numerische Apertur | Arbeitsabstand | Brennweite | Auflösung | Objektsichtfeld | Bildsichtfeld | Gewindegröße |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
BF5XA | 5X | 0.15 | 22 mm | 36 mm | 2,23 µm | 5 mm | 25 mm | M20×0,705 |
BF10XA | 10X | 0.3 | 15 mm | 18 mm | 1,1 µm | 2,5 mm | 25 mm | M20×0,705 |
BF20XA | 20X | 0.4 | 10 mm | 9 mm | 0,75 µm | 1,25 mm | 25 mm | M20×0,705 |
BF50XA | 50X | 0.8 | 2,5 mm | 3,6 mm | 0,41 µm | 0,5 mm | 25 mm | M20×0,705 |
Objektive mit langem Arbeitsabstand-Parameter (60 mm parfokale Länge)
Objektivname | Vergrößerung | Numerische Apertur | Arbeitsabstand | Brennweite | Auflösung | Objektsichtfeld | Bildsichtfeld | Gewindegröße |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
BFL2.5XA | 2,5X | 0.075 | 6,2 mm | 80 mm | 4,46 µm | 10 mm | 25 mm | M26×0,705 |
BFL5XA | 5X | 0.15 | 23,5 mm | 40 mm | 2,2 µm | 5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
BFL10XA | 10X | 0.3 | 22,8 mm | 20 mm | 1,1 µm | 2,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
BFL20XA | 20X | 0.4 | 19,2 mm | 10 mm | 0,8 µm | 1,1 mm | 25 mm | M26×0,705 |
BFL50XA | 50X | 0.55 | 11 mm | 4 mm | 0,6 µm | 0,44 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Hauptmerkmale
- Standard-Arbeitsabstand-Serie/Langer Arbeitsabstand-Serie Objektive (optional)
- Bildgebungsstrahlengang: 1X (Tubuslinsenlänge 180 mm), verschiedene Verkleinerungsoptiken anpassbar
- Bildebene des Bildgebungsstrahlengangs: 25 mm
- Spektralbereich des Bildgebungsstrahlengangs: sichtbares Licht
- Kameraanschluss: C/M42/M52 etc. optional
- Beleuchtungsart: Kritische Beleuchtung/Köhler-Beleuchtung optional
- Beleuchtungsquelle: 10 W Weißlicht/Blaulicht-LED-Beleuchtung optional
Anwendungsbereiche
PLM100 - Professionelle Polarisationslicht-Mikroskopielösung
Das Polarisationsmikroskop (Polarizing Light Microscope) ist ein Mikroskop zur Untersuchung von sogenannten transparenten und undurchsichtigen anisotr...
Standard-Arbeitsabstand-Objektivparameter (45 mm parfokale Länge)
Objektivname | Vergrößerung | Numerische Apertur | Arbeitsabstand | Brennweite | Auflösung | Objektsichtfeld | Bildsichtfeld | Gewindegröße |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
POL2.5XA | 2,5X | 0.075 | 6,2 mm | 80 mm | 4,46 µm | 10 mm | 25 mm | M26×0,705 |
POL5XA | 5X | 0.15 | 23,5 mm | 39 mm | 2,2 µm | 5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
POL10XA | 10X | 0.3 | 22,8 mm | 20 mm | 1,1 µm | 2,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
POL20XA | 20X | 0.4 | 19,2 mm | 10 mm | 0,8 µm | 1,1 mm | 25 mm | M26×0,705 |
POL50XA | 50X | 0.55 | 11 mm | 4 mm | 0,6 µm | 0,44 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Objektive mit langem Arbeitsabstand-Parameter (60 mm parfokale Länge)
Objektivname | Vergrößerung | Numerische Apertur | Arbeitsabstand | Brennweite | Auflösung | Objektsichtfeld | Bildsichtfeld | Gewindegröße |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
POLL2XA | 2X | 0.055 | 33,7 mm | 100 mm | 6,1 µm | 12,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
POLL5XA | 5X | 0.14 | 33,6 mm | 40 mm | 2,2 µm | 5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
POLL10XA | 10X | 0.28 | 33,4 mm | 20 mm | 1,2 µm | 2,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
POLL20XA | 20X | 0.34 | 29,5 mm | 10 mm | 0,8 µm | 1,25 mm | 25 mm | M26×0,705 |
POLL50XA | 50X | 0.5 | 18,9 mm | 4 mm | 0,7 µm | 0,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Hauptmerkmale
- Standard-Arbeitsabstand-Serie/Langer Arbeitsabstand-Serie Objektive (optional)
- Bildgebungsstrahlengang: 1X (Tubuslinsenlänge 180 mm), verschiedene Verkleinerungsoptiken anpassbar
- Bildebene des Bildgebungsstrahlengangs: 25 mm
- Spektralbereich des Bildgebungsstrahlengangs: sichtbares Licht
- Kameraanschluss: C/M42/M52 etc. optional
- Beleuchtungsart: Kritische Beleuchtung/Köhler-Beleuchtung optional
- Beleuchtungsquelle: 10 W Weißlicht/Blaulicht-LED-Beleuchtung optional
Anwendungsbereiche
FM100 - Fluoreszenz-Mikroskopiersystem
Das Fluoreszenzmikroskop (Fluorescence Microscope) ist ein Mikroskop zur Beobachtung von fluoreszierenden oder phosphoreszierenden Substanzen. Das Pri...
Standard-Arbeitsabstand-Objektivparameter (45 mm parfokale Länge)
Objektivname | Vergrößerung | Numerische Apertur | Arbeitsabstand | Brennweite | Auflösung | Objektsichtfeld | Bildsichtfeld | Gewindegröße |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
Flour2.5XA | 2,5X | 0.075 | 6,2 mm | 80 mm | 4,46 µm | 10 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Flour5XA | 5X | 0.15 | 23,5 mm | 39 mm | 2,2 µm | 5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Flour10XA | 10X | 0.3 | 22,8 mm | 20 mm | 1,1 µm | 2,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Flour20XA | 20X | 0.4 | 19,2 mm | 10 mm | 0,8 µm | 1,1 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Flour50XA | 50X | 0.55 | 11 mm | 4 mm | 0,6 µm | 0,44 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Objektive mit langem Arbeitsabstand-Parameter (60 mm parfokale Länge)
Objektivname | Vergrößerung | Numerische Apertur | Arbeitsabstand | Brennweite | Auflösung | Objektsichtfeld | Bildsichtfeld | Gewindegröße |
---|---|---|---|---|---|---|---|---|
FlourL2XA | 2X | 0.055 | 33,7 mm | 100 mm | 6,1 µm | 12,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
FlourL5XA | 5X | 0.14 | 33,6 mm | 40 mm | 2,2 µm | 5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
FlourL10XA | 10X | 0.28 | 33,4 mm | 20 mm | 1,2 µm | 2,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
FlourL20XA | 20X | 0.34 | 29,5 mm | 10 mm | 0,8 µm | 1,25 mm | 25 mm | M26×0,705 |
FlourL50XA | 50X | 0.5 | 18,9 mm | 4 mm | 0,7 µm | 0,5 mm | 25 mm | M26×0,705 |
Hauptmerkmale
- Standard-Arbeitsabstand-Serie/Langer Arbeitsabstand-Serie Objektive (optional)
- Bildgebungsstrahlengang: 1X (Tubuslinsenlänge 180 mm), verschiedene Verkleinerungsoptiken anpassbar
- Bildebene des Bildgebungsstrahlengangs: 25 mm
- Spektralbereich des Bildgebungsstrahlengangs: sichtbares Licht
- Kameraanschluss: C/M42/M52 etc. optional
- Beleuchtungsart: Kritische Beleuchtung/Köhler-Beleuchtung optional
- Beleuchtungsquelle: Leistung 3 W, Wellenlänge 365 nm LED-Lichtquelle
- Fluoreszenzmodul: DAPI-Einzelband-UV-Filter (Anregungsfilter 365 nm, Emissionsfilter 445 nm, dichroitischer Spiegel 405 nm), anpassbar
Anwendungsbereiche
Merkmale der Spezial-Mikroskopiersysteme
- Professionelles Design, optimiert für spezifische Anwendungen
- Hochwertige optische Komponenten
- Modulare Konfiguration, einfach erweiterbar
- Geeignet für Forschung und industrielle Prüfung
- Komplette Systemlösungen
Auswahlhilfe
Wählen Sie basierend auf Probeneigenschaften die geeignete Mikroskopiemethode
Standard- oder Objektive mit langem Arbeitsabstand für verschiedene Anforderungen
Köhler- oder kritische Beleuchtung wählbar
Unterstützt C/M42/M52 und weitere Anschlüsse
Die Spezial-Mikroskopiersysteme von Topograph Photoelectric verwenden ein modulares Design und bieten spezialisierte Lösungen für verschiedene Anwendungsszenarien, um die hohen Anforderungen von Forschung und industrieller Prüfung zu erfüllen.
Systemkonfigurationslösungen
Flexible Kombination von Hardware- und Software-Modulen je nach Anwendungsanforderungen
Dimension | Schlüsselkonfiguration | Technische Highlights | Nutzervorteile |
---|---|---|---|
Bildgebungshardware |
• ToupCam X-Serie: IMX415/IMX571 etc. BSI-CMOS, bis zu 45 MP, USB 3.0/HDMI 60 fps 4K • HCAM/PUM Portable Module: UVC Plug-and-Play, integrierte 8 LED-Ringbeleuchtung |
• Niedriges Ausleserauschen & 66 dB+ Dynamikbereich • Zeilenscan + optionaler Global Shutter |
Realistische Farbwiedergabe, hoher Kontrast; erfüllt Anforderungen von Hochgeschwindigkeits-AOI, Fluoreszenzschwachsignalen und weiteren Szenarien |
Zoom-Optik |
• MZO-Serie (0,25×–8×): 20× Zoomverhältnis, NA 0,12, 174 mm langer Arbeitsabstand • ZOPE All-in-One: Integrierte 8 LED & USB-Kamera, parfokaler linearer Zoom |
Beidseitige parallele Strahlengänge, beugungsbegrenzte MTF, niedrige Verzerrung | Zoomen ohne Nachfokussierung, Proben vom Millimeter- bis zum Mikrometerbereich |
Beleuchtungssystem |
• TZM0756DRL 65/85 mm LED-Ringbeleuchtung: PWM-Helligkeit kontinuierlich einstellbar • TZM0756CL Koaxialbeleuchtung + Punktlichtquelle • AALRL-200 Große Ringbeleuchtung: 300 mm gleichmäßiges Sichtfeld |
Mehrkanal/Polarisation/Koaxial-Komposit-Licht; LED-Winkel 30° einstellbar | Löst Probleme wie PCB-Lötstellen-Blendung, Wafer-Kratzer, transparente Dünnfilminspektion |
Mechanische Plattform |
• TPS-600 Grob-Feinverstellstativ (5 kg Tragkraft) • TPS-300 Präzisionsfeinverstellung 2 µm Schritt • Motorisierte Z & XY-Plattform (optional) |
Eloxiertes Klasse II Luftfahrt-Aluminium, Kugelumlaufspindel | Langzeitstabile 24×7-Positionierung, unterstützt Autofokus und Array-Scanning |
Software & Algorithmen |
• ToupView: Echtzeitmessung/Annotation, Tiefenschärfe-Synthese, HDR, Polarisationsdemodulation • SDK/API: Windows/macOS/Linux/Android • KI-Modul: Defektklassifikation, Maßtoleranz-Beurteilung |
Sekundärentwicklung + PLC/Roboter-Serielle-Protokolle | Schnelle Integration in MES/SPC-Qualitätssysteme, unterstützt Edge Computing und Cloud-Synchronisation |
Systemvorteile
Fünf Kernvorteile für den Aufbau einer professionellen Mikroskopie-Bildgebungsplattform
Komplettes Ökosystem, schlüsselfertige Lieferung
Kamera, Objektiv, Beleuchtung, Stativ, Software – alles aus einer Hand. Keine Mehrfachbeschaffung nötig, Plug-and-Play spart 60 % Integrationsaufwand.
Hohe Auflösung + große Schärfentiefe vereint
45 MP Ultra-HD-CMOS + Tiefenschärfe-Synthese-Algorithmus ermöglicht mikrometergenau scharfe Bilder über 30 mm Sichtfeld.
Multispektral & Schwachlichtbildgebung
Unterstützt Weißlicht/Nah-Infrarot/Polarisations-Kombination mit synchroner Koaxial- + Ringbeleuchtung; zeigt bei 0,05 lux noch Texturdetails.
Flexible Erweiterung, Investitionsschutz
Standard C-Mount und GigE Vision/USB3 Vision-Protokoll, spätere Upgrades für KI-Module, automatischen Objekttisch und Mehrkamera-Synchronisation ohne Hauptkörper-Austausch möglich.
Branchenübergreifende Implementierungsfälle
- Halbleiter: Bumping, Kratzer, Bonddraht-Defekt-AOI
- FPC/PCB: Lotpastenhöhe, Pad-Rückstandserkennung
- Neue Energie: Li-Ionen-Separator-Porengröße, Elektrodenbeschichtungs-Gleichmäßigkeit
- Lebenswissenschaften: Gewebeschnitte, Entomologie, Pflanzen-Lebendbeobachtung
- Bildung und Training: Virtuelle Experimente in Hochschul-Materialkursen, STEAM-Maker-Kurse
Anwendungsfälle
Erfolgreiche Implementierungserfahrungen in mehreren Branchen

Halbleiterfertigung

FPC/PCB-Qualitätsprüfung

Neue Energie-Materialien
